「台灣半導體業發展20年，從2002年130奈米製程，每2年半導體線寬線徑縮小1/3，2016年進入10奈米製程，這2年討論的是5奈米、3奈米甚至2奈米。為何先進製程如此重視AMC（氣態分子汙染物）防治？因為氣體分子污染物充斥在無塵室裏，只要5-17個氣體分子沉積，就會占滿5奈米線寬。」半導體先進製程AMC防治專業廠商濾能總經理黃氣寶解釋。
預計於6月下旬掛牌上櫃，濾能擁有AMC微污染控制的領先技術，防治裝置已成為無塵室標準配備，在國內10奈米以下先進製程市場占有率打下半壁江山，主要客戶為世界級半導體晶圓代工大廠。
避免影響良率，半導體廠投入大筆費用做AMC防治
董事長黃銘文出身知名半導體廠AMC污染防治計畫主持人，2014年創立濾能，他回憶，當時資本額只有300萬，必須很謹慎使用，一開始就成立產品研發中心，2018年就獲得環保認證。他說，污染物分為外在與內部，例如火力發電、汽機車都造成大環境污染，另一個是台灣半導體產業聚落明顯，科學園區都有排廢氣的產生。內部則是來自半導體製程中，本身就使用許多化學氣體輔助生產。
而先進製程對於AMC微污染十分敏感，晶圓缺陷一直是影響產品良率提昇的重要因素之一，當製程良率無法達到成熟穩定時，將嚴重延遲量產時間，造成巨大損失。因此半導體廠才會投入大筆費用做AMC防治。
8年內從新創公司成為無塵室標準配備
濾能的濾網與傳統濾網差別在哪裡？為何能在8年內從新創公司成為無塵室標準配備？黃銘文解釋，傳統濾網是三個不同功能的濾網組成一組，就像一個黑盒子一樣，裡面的東西不能拆，一個不能用就必須整個盒子丟了，體積重達20-30公斤。濾能則是把金屬框體放在天花板，其中裝有數片濾網，能輕易的把其中要更換的濾網抽出來，把新的換上去就好，
平均下來，一個廠天花板約有1萬5千組，一組可能掛3、4片濾網，建置在每個風扇單元的上面。更換的頻率就看製程，快的話甚至2、3天就必須換一次，因為先進製程能容許的氣體分子數量很少，必須透過大量更換來維持現場環境濃度。尤其現在無塵室已經進步到建置很多污染物感應器，更換頻率是以現場環境濃度有沒有超過標準，且這些感應器已經能判斷環境裡面是酸性鹼性、還是有機物質過多，可以輕易抽出更換不同濾網。目前濾能營收來自於新廠建置約占3成、替換濾網佔6成，安裝等服務費約1成。
全球先進製程競賽，驅動半導體廠積極擴建
濾能去年營收8.29億元，年增28.01%，成長主要來自客戶先進製程產能擴充帶動AMC污染防治產品需求所致，毛利率28.72%，稅後淨利0.97億元，EPS 5.46元。法人看好濾能今年營收可望挑戰10億元大關。
在先進製程技術持續推動下，台積電109年已將量產技術推進至5奈米製程技術，預估2022年啟動3奈米製程量產，並於2025年啟動2奈米製程量產。除了全球先進製程競賽驅動半導體廠積極擴建外，國際半導體產業協會報告指出，2021年全球半導體設備將有1030億美元市場，2022年更可望攀上1140億美元新高點，晶圓廠設備支出的部分也可望從2019年517億美元成長到2022年880億美元，濾能所提供之AMC防治產品需求也必然大幅提升。
